平面钼靶材

平面靶材图片

钼溅射靶材根据形状可分为平面钼靶材,多弧靶材,旋转靶材。平面钼靶材主要是指具有一定厚度的圆形靶材及矩形靶材。平面靶材通过螺纹等方式与溅射设备相连接,在真空条件下溅射成膜层附着于基片上,再通过各种手段(刻蚀)对薄膜加工,以满足不同需要。

平面钼靶材的制备流程如下所示:
1.将原料装入橡胶模套内,制备成实心的粉质钼板坯;
2.然后采用冷等静压机成型,压力为300-400Mpa,8分钟后固体板坯成型;
3.将成型后的固体板坯放入中频烧结炉中,炉内通入氢气,加热温度为2300℃,加热时间为28个小时,后采用水循环降温10小时,后冷却至室温止,成型坯体备用;
4.将处理后的成型板坯加热到1500℃,加热时间为2小时,取出后经热轧机轧制成形;
5.将处理后的板坯进行机械加工,钼平面靶制作完成。

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