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高纯钼溅射靶材
高纯钼溅射靶材具有更好的溅射薄膜性能，纯度越高，其性能越好。高纯钼溅射靶材主要应用于半导体、显示器等电子领域。该领域对钼靶材的纯度要求较高，一般要达到99.95%。但随着液晶显示器行业玻璃基板尺寸的不断增大，要求配线长度延长、线宽变细，因而要不断提高溅射靶材的溅射薄膜的性能，而提高靶材的纯度是对薄膜均匀性以及布线质量的保证，因此，根据溅射玻璃基板的尺寸以及使用环境，钼溅射靶材的纯度要在99.99%~99.999%，甚至更高达到99.999%。
制备高纯度的钼溅射靶材首先要采用高纯度的钼粉，其次是要严格控制制备过程，防止杂质进入。厦门中钨在线科技有限公司采用高纯原料钼粉和良好的制备工艺，能够提供高质量、高纯度的钼靶材，欢迎详情咨询。
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