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钼旋转靶
钼旋转靶是磁控的靶材，通常被做成圆筒形的，里面装有静止不动的磁体，在操作过程中，会以慢速转动。常见的产品规格如下所示：ID-133/ OD-157x 3191mm；ID-133/OD-157 X 3855mm；ID-160/OD-180x1800mm。厦门中钨在线科技有限公司提供各种常规尺寸的钼旋转靶，也可以根据客户的具体要求加工。
它具有良好的性能要求，如钼旋转靶的使用温度是1800°C，最高使用温度是2310°C，密度是19.2克/立方厘米，纯度是99.95%，因此常用于制备太阳能电池，建筑玻璃，汽车玻璃，半导体，平板电视等。
钼旋转靶是提高钼溅射靶材利用率的一种方法。 相比钼平面靶材，采用钼旋转靶结构的设计显示出钼溅射靶材的实质性优势。靶的寿命定义为溅射功率乘以溅射时间，或者是能在基板上淀积材料的总厚度 。从钼平面靶到钼旋转靶在几何结构和设计上的变化增加了靶材的利用率，利用率从钼平面靶的30% ～ 50%可增加到钼旋转靶的> 80%。 此外，如果以溅射功率乘以溅射时间来衡量靶材料的寿命，则钼旋转靶的寿命要比钼平面靶长5倍。由于钼旋转靶在溅射过程中不停地旋转，所以在它的表面不会产生重沉积现象。
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