钼棒、钼板、钼靶>>
铜靶和钼靶
铜靶和钼靶都可以用于镀膜行业，它们被广泛应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等，也可应用于玻璃镀膜领域。
钼靶又称为钼溅射靶材，因其具有熔点高、高温物理强度大、高的弹性模量、优良的导热性、选择性抗侵蚀的优良性能，因此被广泛应用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。它适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
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