鉬棒、鉬板、鉬靶>>
平面鉬靶材
鉬濺射靶材根據形狀可分為平面鉬靶材，多弧靶材，旋轉靶材。平面鉬靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材。平面靶材通過螺紋等方式與濺射設備相連接，在真空條件下濺射成膜層附著於基片上，再通過各種手段（刻蝕）對薄膜加工，以滿足不同需要。
平面鉬靶材的製備流程如下所示： 1.將原料裝入橡膠模套內，製備成實心的粉質鉬板坯； 2.然後採用冷等靜壓機成型，壓力為300-400Mpa，8分鐘後固體板坯成型； 3.將成型後的固體板坯放入中頻燒結爐中，爐內通入氫氣，加熱溫度為2300℃，加熱時間為28個小時，後採用水迴圈降溫10小時，後冷卻至室溫止，成型坯體備用； 4.將處理後的成型板坯加熱到1500℃，加熱時間為2小時，取出後經熱軋機軋製成形； 5.將處理後的板坯進行機械加工，鉬平面靶製作完成。
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