鉬棒、鉬板、鉬靶>>
圓鉬靶
鉬靶根據產品形狀可以分為圓鉬靶、方鉬靶、鉬板靶，根據應用領域可以分為X射鉬靶、鉬濺射靶材和鍍膜靶材等。
物理性質如下所示：純度:≥99.95%，密度：≥10.15克/立方釐米，熔點：2610℃ ，沸點：5560℃，形狀：圓形。
性能:圓鉬靶具有高強度，內部組織均勻，優良的抗高溫蠕變性能。
用途：鉬靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT-LED（Thin Film Transitor-Liquid Crystal Displays，薄膜半導體管-液晶顯示器）、等離子顯示幕、無機光發射二極體顯示器。場發射顯示器、薄膜太陽能電池、感測器、半導體裝置以及具有可調諧函數CMOS（互補金屬氧化物半導體）的場效應電晶體柵極等。
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