高純鉬濺射靶材

高純鉬濺射靶材圖片

高純鉬濺射靶材具有更好的濺射薄膜性能,純度越高,其性能越好。高純鉬濺射靶材主要應用於半導體、顯示器等電子領域。該領域對鉬靶材的純度要求較高,一般要達到99.95%。但隨著液晶顯示器行業玻璃基板尺寸的不斷增大,要求配線長度延長、線寬變細,因而要不斷提高濺射靶材的濺射薄膜的性能,而提高靶材的純度是對薄膜均勻性以及佈線品質的保證,因此,根據濺射玻璃基板的尺寸以及使用環境,鉬濺射靶材的純度要在99.99%~99.999%,甚至更高達到99.999%。

製備高純度的鉬濺射靶材首先要採用高純度的鉬粉,其次是要嚴格控制製備過程,防止雜質進入。廈門中鎢線上科技有限公司採用高純原料鉬粉和良好的製備工藝,能夠提供高品質、高純度的鉬靶材,歡迎詳情諮詢。

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