三酸化モリブデン
三酸化モリブデンMoは連結された2つの類似の鎖の合計は、酸化モリブデンの化学量論的な層を形成するためにそれぞれの側にチェーンコーナー形状の基本構造単位として[MoO6]八面体の角を中心と酸素原子の金属原子でありますファンデルワールス力によって層の間の構造、および配置を積層千鳥。
層状構造および骨格を有する三酸化モリブデンは非常に重要であり、流通チャネルおよびイオン埋め込み位置として使用することができるチャネルの広い拡張があります。オープン結晶三酸化モリブデンの構造及びその水和物H+、Li +イオン及び他の良好なイオン注入体です。この優れた機能には、触媒、センサーは幅広いアプリケーションの見通しを持って、それ情報表示やストレージの分野にします。難燃剤、触媒劣化やガス検知特性 - エレクトロクロミック煙抑制を持つ三酸化モリブデン。著者は三酸化モリブデンとそのアプリケーションのパフォーマンスをレビューします。
三酸化モリブデン品質：満たす"GB3649 - 87"標準的な品質要件を。三酸化モリブデン形状：粉末 - サイズ16ミリメートル最大。
指定と三酸化モリブデンの化学組成
商標 |
化学組成 |
|||||||
Mo |
S |
Cu |
P |
C |
Sn |
Sb |
||
Ⅰ |
|
|||||||
Max% |
||||||||
YMo 55.0-A |
55.0 |
0.10 |
0.15 |
0.25 |
0.04 |
0.10 |
0.05 |
0.04 |
YMo 52.0-A |
52.0 |
0.10 |
0.15 |
0.25 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 55.0-B |
55.0 |
0.10 |
0.15 |
0.40 |
0.04 |
0.10 |
0.05 |
0.04 |
YMo 52.0-B |
52.0 |
0.15 |
0.25 |
0.50 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 50.0 |
50.0 |
0.15 |
0.25 |
0.50 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 48.0 |
48.0 |
0.25 |
0.30 |
0.80 |
0.07 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
産業用途の広い範囲で三酸化モリブデン。その主な用途は合金鋼およびその他の耐食性の添加剤としてです。三酸化モリブデンはまた、モリブデン製品、工業用触媒、顔料、作物の栄養、ガラス、セラミック、エナメル、ポリエステル、化学試薬等の難燃剤のポリ塩化ビニル樹脂成分の製造に使用されます。職業ばく露が予想されます。動物データ画面により三酸化モリブデンは、予備的な毒性学的評価、および交渉をもたらしている、欧州委員会は、発がん性物質を同定しました。
準備三酸化モリブデン
| 調製法 | 利点 | 欠点 |
| 蒸镀法 | 设备简单，易于操作 | 膜と基板の結合は、はがれやすい強力ではありません。 装置は、大面積で均一な酸化膜を生成するために、高価で技術的に複雑で困難です |
| 電気化学析出 | 1）大面積の薄膜を容易に調製; 2）潜在的な（又は現在の）溶液の組成を制御することにより、等、膜の組成を制御することができます。 3）堆積時間を制御することにより、電気は、フィルムの厚さ及び表面形態を制御することができます。 4）高真空、高温、有害ガスを使用することなく、簡単かつ安全な方法を必要としません |
それはより多くの水が含まれている内部のフィルムは、典型的には、比較的緩いです。 成長基板表面の核生成及び成長速度は、不規則な結晶構造、典型的には、多結晶構造を制御することはできません |
| スパッタリング | 1）基板温度が低いです。 2）膜の調製良好な結晶は、単結晶エピタキシャル膜を得ることができます。 3）良好な性能映画 |
スパッタリングの遅い成長速度は、膜組成および目標は、一定のバイアスを有しています |
| ゾル - ゲル法 | 1)能够精确控制薄膜的组分和掺杂； 2)易于制备大面积薄膜，适于大批量生产，设备简单，成本低； 3)与集成工艺兼容，适于制作铁电集成器件 |
膜の密度は、現象を割れ、悪い傾向があります。 |
ゾル - ゲル法MoO 3のフィルム
まず、CH3COCH2COCH3、酸化モリブデン、C6H5CH3とHOCH2CH2OCH3は三酸化モリブデンゾルとゲルを合成しました。
熱ゲルおよび三酸化モリブデンの結晶の示差熱分析は、140℃付近の508℃の範囲で起こります。
その後、準備は450℃でアニールによるSi（111）基板上にスピンコートモリブデン三酸化処理膜でした。XRDおよびFT-IRにより特性化はα-酸化モリブデン相の膜を示しました。SEMによって特徴付け0.5〜1。0μmの範囲の粒子サイズ、優先配向することなく、基板表面で緻密なフィルムグレイン分布を示しました。
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