고순도 몰리브덴 분말

고순도 몰리브덴 분말고순도 몰리브덴 분말, 고전압 고전류 반도체 장치, 시청각 장비, 카메라 부품, 재료의 고밀도 집적 회로의 게이트 전극 용 몰리브덴 와이어. 고순도 몰리브덴 분말 제조하려면 먼저 고순도 산화 몰리브덴 또는 고순도 할라이드를 획득한다. 고순도 산화 몰리브덴 과정을 구하는 있습니다 

플라즈마 물리 기상 증착 
통상 산화 몰리브덴의 공기 플라즈마 처리, 산화 몰리브덴 냉기 다수 도입 외부 특성이 공기 플라즈마 불꽃 빠르게 증발하게 대부분 불순물보다 낮은 비점의 사용, 플라즈마 불꽃은 기상 산화 몰리브덴 냉장 초 고순도 산화 몰리브덴 분말을 얻을 수 있습니다. 

이온 교환 
원료 분말은 30 %의 H2O2의 농도로 첨가 한 용기의 L / h의 속도로 그 다음, 물과 혼합 테플론 용기에 용해시켰다. 생성 된 용액은 H 형의 양이온 교환 체에 통과시키고, 상기 용기를 95 ℃로.] C로 가열하고, 흡입 압력 침전물을 형성하기 위해 약 25 파 5시간 유지, 즉 고순도 산화 몰리브덴 및 농축시켰다.

화학 정제 방법 
반복 재결정함으로써, 고순도를 얻는 소성 후 고순도 몰리브덴 산 암모늄, 몰리브덴 삼산화물을 얻고있다. 
고순도 몰리브덴 분말을 얻을 수있는 종래의 수소 환원 플라즈마는 수소 환원 방법을 사용하여, 고순도의 산화 몰리브덴을 얻은 후. 애플리케이션의 이러한 형태의 제조는보고되어 있지만, 특정 사상 및 기술 내용은 밝혀지지 않았다. 

고순도 할라이드 기술의 원리를 얻기 위해서는 것은 : 할라이드 (예컨대 소결 된 스트립 척, 몰리브덴 재질 스크랩 폐기물 몰리브덴 선 등) 산업용 산화 몰리브덴 또는 몰리브덴 스크랩 (일반적 몰리브덴 펜타 클로라이드) 할로겐을 제공하는, 다음 몰리브덴 할라이드 분별 처리의 약 550 ℃의 고온 조건 하에서, 내부 휘발 불순물이 수득 하이드로 불꽃 수소 플라즈마 불꽃 감소하여 최종적으로 심층 정제 몰리브덴 할라이드 (5 N까지 추정 순도)를 정제하여 고순도 몰리브덴 분말.

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