三氧化钼
三氧化钼是由金属原子Mo在中心、氧原子在角边的[MoO6]八面体为基本结构单元，共角、形成链连接，每两个相似的链共边连接形成层状的MoO3化学计量结构，层与层之间靠范德华力作用而交错堆积排列。
三氧化钼具有层状结构和框架很重要，其中存在着广延的通道，可用作离子的流通渠道和嵌入位置。开放的三氧化钼晶体结构和它的水化物都是H+，Li+及其他离子的良好离子注入主体。这一优良特性使其在信息显示与储存、催化剂、传感器等领域具有广阔应用前景。三氧化钼具有电致变色、抑烟-阻燃、催化降解以及气敏特性等。笔者综述了三氧化钼的性能及其应用。
三氧化钼质量：可满足"GB3649 - 87"标准的质量要求。三氧化钼形状：粉末 - 尺寸16毫米最大。
三氧化钼牌号及化学成分
牌号 |
化学成分 |
|||||||
Mo |
S |
Cu |
P |
C |
Sn |
Sb |
||
Ⅰ |
|
|||||||
Max% |
||||||||
YMo 55.0-A |
55.0 |
0.10 |
0.15 |
0.25 |
0.04 |
0.10 |
0.05 |
0.04 |
YMo 52.0-A |
52.0 |
0.10 |
0.15 |
0.25 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 55.0-B |
55.0 |
0.10 |
0.15 |
0.40 |
0.04 |
0.10 |
0.05 |
0.04 |
YMo 52.0-B |
52.0 |
0.15 |
0.25 |
0.50 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 50.0 |
50.0 |
0.15 |
0.25 |
0.50 |
0.05 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
YMo 48.0 |
48.0 |
0.25 |
0.30 |
0.80 |
0.07 |
0.15 |
0.07 |
0.06 |
三氧化钼具有广泛的工业用途。其主要用途是作为钢铁和其他抗腐蚀合金的添加剂。三氧化钼也用于钼产品生产，工业催化剂，颜料，一种作物养分，是玻璃，陶瓷和搪瓷，为聚酯，聚氯乙烯树脂阻燃剂的组成部分，作为一种化学试剂。职业暴露的预期。三氧化钼通过动物实验数据屏幕上，进行了初步的毒理学评价，并正在带来了协商，致癌物质鉴定委员会。
三氧化钼制备方法
| 制备方法 | 优点 | 缺点 |
| 蒸镀法 | 设备简单，易于操作 | 薄膜与基底结合不牢固，容易剥落； 设备昂贵，技术复杂，不易于大面积生产均匀的氧化物薄膜 |
| 电化学沉积法 | 1)易于大面积薄膜的制备； 2)通过控制电位(或者电流)及溶液组成等可以控制薄膜的组成； 3)通过控制沉积时的电量可以控制薄膜的厚度及表面形貌； 4)不需要高真空、高温，不需要使用危险气体，方法简便安全 |
薄膜通常比较疏松，内部含有较多水分； 基体表面上晶核的生长及长大速度不能控制，晶体结构不规则，一般为多晶结构 |
| 溅射法 | 1)衬底温度较低； 2)制备的薄膜结晶性好，可获得外延单晶膜； 3)薄膜的性能好 |
溅射的生长速率慢，薄膜成分与靶材有一定偏差 |
| 溶胶-凝胶法 | 1)能够精确控制薄膜的组分和掺杂； 2)易于制备大面积薄膜，适于大批量生产，设备简单，成本低； 3)与集成工艺兼容，适于制作铁电集成器件 |
薄膜的致密性较差，易出现龟裂现象; |
溶胶-凝胶法制备MoO3薄膜
首先，以CH3COCH2COCH3， MoO3，C6H5CH3和HOCH2CH2OCH3为原料合成三氧化钼溶胶和凝胶。
凝胶的热重和差热分析显示三氧化钼的晶化出现在508℃附近的140℃范围内。
然后，利用旋转涂布法在硅(111)基片上通过450℃退火处理制备了三氧化钼薄膜。通过XRD和FT-IR表征表明薄膜为α-MoO3相。通过SEM表征表明，薄膜中晶粒分布均匀致密，在基片表面无择优取向，晶粒尺度范围在0. 5~1. 0μm。
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