钼溅射靶材

我们拥有热轧机和冷轧机,可以提供钼溅射靶材靶材厚度为0.2毫米至20毫米。具有非常好的性能,这些产品可用于生产电极,加热器,屏蔽件等。

钼溅射靶材

钼溅射靶材又称钼靶材,可用于常用的X射线管的X射线屏蔽。

钼溅射靶材,即钼靶材,通常由钼粉经烧结而成。多数情况下,它是由阳极本身就是烧结钼粉制成,目标是由阳极所形成的。阳极可以是固定式或旋转阳极。其他的标准方法,化学气相沉积,或者再次,当焦点在一个旋转阳极的情况下,电解沉积启用了钼层沉积在阳极,沿着一条轨道,以形成对整个阳极表面或表面上这个目标的一部分。

钼溅射靶材

材料 纯度
钼溅射靶材 2"D X .125"T 99.95%
溅射靶材 2"D X .250"T 99.95%
溅射靶材"D X .125"T 99.95%
钼靶材3"D X .250"T 99.95%
钼靶材 4"D X .125"T 99.95%
钼靶材 4"D X .250"T 99.95%

其它尺寸也可以定做。

如果您对我司的钼靶材感兴趣,请随时通过电子邮件:sales@chinatungsten.com sales@xiamentungsten.com 或电话:0592 512 9696与我们联系。