真空鍍膜用鉬絲
 |
 |
真空鍍膜用鉬絲是一種專為真空沉積技術（如熱蒸發、電子束蒸發等）開發的高純度金屬絲，因其優異的熱穩定性、電導率及在高真空環境下的化學惰性，被廣泛應用於各種薄膜製備工藝中，作為加熱元件或支撐材料。
一、主要特性
1.熔點高：鉬的熔點高達約2620°C，能夠在高溫真空環境中穩定工作。
2.良好的熱導率與電導率：在蒸發或濺射過程中提供高效加熱與穩定性能。
3.低蒸氣壓：在高真空條件下不易揮發，可有效防止對鍍膜環境的污染。
4.良好的機械強度：在熱應力下具備抗變形與抗斷裂能力，提升使用壽命。
5.高純度：一般純度達到99.95%以上，減少雜質對膜層品質與工藝穩定性的影響。
二、應用領域
1.熱蒸發鍍膜：作為加熱絲或螺旋加熱器用於蒸發鋁、鉻、金等金屬材料。
2.電子束蒸發鍍膜：可作為支撐架或蒸發舟，在高能電子束下保持穩定。
3.濺射與物理氣相沉積（PVD）：用於某些結構或導電部件。
4.電子與光學薄膜製備：廣泛用於半導體、光學鏡片、顯示器、太陽能電池等精密鍍膜場景。
三、產品形式與規格
直徑範圍：常見規格為0.05 mm至1.0 mm，可根據客戶需求定制。
表面狀態：可提供黑皮態、清潔態或化學拋光態，以滿足不同工藝需求。
包裝形式：通常繞於專用線軸上，便於安裝和使用。
四、在真空鍍膜中的優勢
1.鍍膜週期長時仍保持結構穩定。
2.極低的氣體釋放量，有助於保持腔體潔淨。
3.在許多應用中是較鎢或鉑更具性價比的選擇。
如果您對我們的產品感興趣，請隨時通過電子郵件與我們聯繫：sales@chinatungsten.com sales@xiamentungsten.com 或電話：86 592 5129 696。