Molibdeno Piazza target
Molibdeno bersaglio piazza è uno dei prodotti di bersaglio molibdeno.
Proprietà fisiche come segue: Densità: 10,2 g / cc, punto di fusione: 2610 ℃, punto di ebollizione: 5560 ℃, la purezza: ≥99.95%, forma: quadrata.
Proprietà: molibdeno ha elevato punto di fusione, elevata conducibilità elettrica, bassa impedenza specifica, una buona resistenza alla corrosione e buone prestazioni ambientali.
Applicazioni: Nel settore dell'elettronica, il bersaglio di molibdeno sputtering è utilizzato principalmente in schermi piatti, celle solari a film sottile, materiali elettrici e semiconduttori materiali barriera. Oltre al settore schermo piatto, con lo sviluppo di nuove industrie energetiche, obiettivi molibdeno sputtering utilizzati nelle celle fotovoltaiche solari a film sottile è gradualmente ampliato.
Requisiti Proprietà: Per aumentare bersaglio molibdeno tasso sputtering e per garantire la qualità dei film depositati, ci sono alcuni requisiti proprietà come segue.
1. Purezza: elevata purezza bersaglio di molibdeno è, migliori sono le prestazioni del film polverizzata. molibdeno generale obiettivo di purezza dovrebbe raggiungere al 99,95%, ma con il continuo miglioramento del settore LED, formato substrato di vetro continua a migliorare e la lunghezza cablaggio deve essere prolungata. Inoltre, la larghezza della linea dovrebbe più sottile. Al fine di garantire la qualità dell'uniformità pellicola e il cablaggio, sono stati aumentati i requisiti di purezza destinazione. bersaglio di molibdeno substrato di vetro usato la sua purezza dovrebbe in 99,99% al 99,999% o anche di più.
2. Densità: Durante sputtering, piccolo bersaglio densità molibdeno sofferto bombardamenti, perché il gas rilascerà forma vuoto aria interna del bersaglio di molibdeno, conseguente grande dimensioni particelle target schizzi, o il film dopo il secondo bombardamento elettronico per causare particelle spruzzi, riducendo così la qualità del film. Generalmente, la densità richiesta dovrebbe superiore a 98%.
3. La dimensione e la dimensione della distribuzione del grano: Di solito il molibdeno sputtering obiettivo è struttura policristallina e la dimensione può essere micron a millimetri. A grana fine di molibdeno tasso obiettivo sputtering è veloce di cereali. La differenza minore tra la granulometria del bersaglio, la distribuzione dello spessore del film depositato è più uniforme.
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